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Olá e seja bem-vindo(a) ao curso Dominando Repository Pattern do balta.io, eu sou André Baltieri, ou balta, 12x Microsoft MVP e vou te guiar por este curso.
Criar aplicações bem estruturadas e escaláveis exige um entendimento sólido dos padrões de arquitetura e boas práticas. Sem uma base bem definida, o código pode se tornar difícil de manter, testar e evoluir com o tempo.
O Repository Pattern, junto com a Arquitetura Limpa, nos permite estruturar melhor nossas aplicações, separando responsabilidades de forma clara e organizada. Isso facilita a manutenção do código e melhora a testabilidade, garantindo que possamos evoluir nossas soluções com segurança.
Neste curso, vamos construir uma aplicação completa do zero, aplicando os conceitos do Repository Pattern e Arquitetura Limpa. Vamos iniciar desde a configuração do projeto, passando pela implementação do Entity Framework, Migrations, consumo do DbContext e operações de CRUD (Create, Read, Update e Delete).
Além disso, vamos organizar nossa aplicação em camadas bem definidas seguindo os princípios da Arquitetura Limpa, estruturando nosso código em Domínio, Application, Infraestrutura e API. Também abordaremos conceitos fundamentais como Aggregate Root e Unit of Work, garantindo uma implementação robusta e escalável.
Este curso é voltado para desenvolvedores que já possuem conhecimentos sólidos em ASP.NET, .NET e C#, e que desejam aprimorar suas habilidades em arquitetura de software, padrões de repositório e boas práticas de desenvolvimento.
Caso você ainda esteja iniciando no mundo .NET, recomendamos seguir nossa trilha de carreira antes de embarcar neste conteúdo. Assim, você terá uma base sólida para aproveitar ao máximo este curso!
Este curso utiliza a versão 90 do .NET e 13 do C# (últimas versões disponíveis no momento da gravação).
Além disso, os conceitos apresentados aqui são atemporais e podem ser aplicados a outras tecnologias e frameworks, tornando este conhecimento essencial para qualquer desenvolvedor que busca escrever código escalável e de qualidade.